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100nm以下の分解能で半導体へ非接触の光学イメージング。

SMAL(超解像マイクロスフェア増幅レンズ)技術は、非接触・非破壊で半導体チップ・シリコンウェハの製造での品質検査に使用できます。

SMALは白色光を使用するため、ナノスケール画像をフルカラーで表示します。Nanoro 超解像度ナノスキャニング光学顕微鏡は、走査型電子顕微(SEM)や原子力顕微鏡(AFM)では実行できない検査にも使用できます。高品質の検査=より良い品質管理=コスト削減と製造効率へつながります。

右の写真は、SMAL技術と通常の光学顕微鏡でナノ構造のチップイメージングの比較を示しています。

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